集成电路发明者——杰克·基尔比早已回答过这个问题，

在其总结的工程师方法论中，将发明家与画家进行对比，对今日之科学、艺术界人士，当有启迪。

发明创造与艺术创造，本质上，是两种创造性。

1947 年，24 岁的基尔比拿到 Centralab 公司的 offer，

这是一家生产电子部件的公司，产品用于助听器、收音机和电视电路，

在 Centralab 公司期间，基尔比白天工作，晚上学习，

他不放过任何感兴趣的讲座，他拼命摄取各个领域的信息。

1947 到 1957，基尔比在 Centralab 度过职业生涯黄金年龄，从 24 岁的新人，成长为拥有十多项美国专利的资深工程师，

更重要的是，这 10 年间，基尔比发展出一套独特的工程师方法论：广角镜头 + 显微聚焦，

何为广角镜头？

即，工程师必须用广角镜头审视一切，搜寻本领域、相邻领域乃至陌生领域的海量信息，

唯一的途径是大量阅读，不限于技术文献，包括各种出版物——书籍、传单、报纸、杂志、演讲、目录……任何进入视野的东西，

基尔比每天阅读两三份报纸，每周阅读十几本杂志，以及大量书籍。

作为发明家，基尔比尤其关注专利，在相当长的一段时间内，他会花时间阅读美国政府颁发的每一项新专利，

从《电解槽的阳极螺栓涂层》，到《燃气陶瓷辐射家禽育雏器》，甚至《吉他放大系统》，

无论与自己的研究领域有多远距离，基尔比都抱有浓烈的好奇心，

他的目标很明确——日复一日地积累零散信息，也许未来某天，其中某一片段会产生意想不到的作用。

何为显微聚焦？

工程师需要将目光对准极其狭窄、极其专精的焦点，屏蔽其他一切，聚集问题本身。

无数失败的解决方案，肇因于瞄准错误的问题，

创新的关键，在于准确定义问题，而定义问题的前提，则是理解围绕问题的自然约束条件，

发明家的核心工作，便是通过创造性的 idea，绕过自然力量的限制，

但发明不同于艺术，这是两种截然不同的创造性，

画家面对空白的画布，作家面对空白的纸张，

创作者选择一个意象，自由使用任何手法或技巧，还原某一现实或虚拟的场景。

而发明家面对现实世界的原材料，从导体，到绝缘体，以及半导体，

自然法则的约束，使你不能随心所欲，你必须在自然规律的限定范围内，尝试巧妙而出人意料的组合，以实现预期效果。

此间关键，在于丢掉所有显而易见的解决方案，

人类的思维永远倾向于跳到那些显而易见的答案，这些答案往往毫无用处，

要相信前人的智慧，如果一个问题足够重要，所有显而易见的解决方案一定都被尝试过，

“非显而易见”（nonobvious），这是基尔比参悟的工程师方法论中，至关重要的概念。

发现区别了吗？

艺术家面对画布或纸张，可以肆意挥洒想象力，创造出具备美感的作品，

但科学家、发明家面对现实世界中的物体，必须在自然法则的约束之下，进行创新，

而创新的目的，是突破某一认知边界or解决某一实际问题。

前者，是向内心求表达，

后者，是向外界求答案，

这是两座不同的高山，都是人类创造力之巅峰体现。

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